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        Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發(fā)鍍膜儀
        Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發(fā)鍍膜儀

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        天美儀拓實驗室設(shè)備(上海)有限公司

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        Q150V Plus為高真空鍍膜應(yīng)用做了優(yōu)化設(shè)計,極限真空度可達(dá)1x10-6mbar。結(jié)合潘寧規(guī)和皮拉尼規(guī)的使用,可以使易被氧化的金屬形成超小尺寸的顆粒,以實現(xiàn)高分辨率成像。高真空腔室也可以將氮氣,氧氣和水完全除去,避免在濺射過程中因化學(xué)反應(yīng)導(dǎo)致雜質(zhì)和缺陷形成。較低的濺射速率還可獲得高純度和高密度的無定型碳膜。

        產(chǎn)品特點
        1. 極限真空度可達(dá)1x10-6mbar
        2. 新的LED狀態(tài)指示燈
        3. 16G內(nèi)存可以存儲1000個以上條件設(shè)置記錄
        4. 新軟件允許多用戶界面設(shè)置
        5. 新的電容觸摸屏設(shè)計
        創(chuàng)新點

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        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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