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在近代科學技術(shù)的許多領(lǐng)域中對各種薄膜的研究和應用日益廣泛。因此，更加精確和迅速的測定給定薄膜的光學參數(shù)已變得更加迫切和重要。在實際工作中可以利用各種傳統(tǒng)的方法測定光學參數(shù)，如：布儒斯特角法測介質(zhì)膜的折射率，干涉法測膜厚，其它測膜厚的方法還有稱重法、X射線法、電容法、橢偏法等。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、精度高、非破壞性測量等優(yōu)點，因而，橢圓偏振法測量已在光學、半導體、生物、醫(yī)學等諸多領(lǐng)域得到廣泛應用。
技術(shù)參數(shù)：
規(guī)格與主要技術(shù)指標：
測量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm； 折射率范圍：1-10
測量*小示值：≤1nm 入射光波長：632.8nm
光學中心高：80mm 允許樣品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤16mm
偏振器方位角范圍：0°- 180°讀取分辨率為0.05°
測量膜厚和折射率重復性精度分別為：±1nm和±0.01
主機重量：25kg 入射角連續(xù)調(diào)節(jié)范圍：20°- 90°精度為0.05°
主要特點：
儀器采用消光法自動測量薄膜厚度和折射率，具有精度高、靈敏度高以及方便測量等特點；
光源采用氦氖激光器，功率穩(wěn)定、波長精度高；
儀器配有生成表、查表以及精確計算等軟件，方便用戶使用。
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