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設(shè)備的清洗和干燥都是在一個腔體內(nèi)真空條件下完成。在真空條件下加熱溶劑溫度能提高溶劑的去污效果，加上超聲波，噴淋、旋轉(zhuǎn)的輔助功能能快速的起到清洗的效果。在真空條件下干燥能降低溶劑的沸點起到快速干燥的效果。                            設(shè)備使用溶劑：碳氫溶劑、改性醇                                                

設(shè)備清洗工藝：真空噴淋清洗、真空超聲波清洗、蒸汽清洗+真空干燥（其中清洗工藝可以由多道組成）                               設(shè)備清洗節(jié)拍：10-15分鐘                                                                

設(shè)備輔助工藝：液下射流清洗                                                                

設(shè)備輔助功能：擺動機構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、蒸餾回收裝置                                               

設(shè)備適用清洗的零件：礦物油加工的金屬零件                                                               

設(shè)備加熱方式：純水間接加熱（電加熱）                                                                

設(shè)備溶劑消耗量：4桶/年 （根據(jù)實際清洗零件及工作量）                                                                

設(shè)備使用溫度：清洗溫度60-90度，干燥溫度：110度

備注：設(shè)備采用改性醇溶劑清洗可以清洗帶水的零件，改性醇具有溶水的特性。