參考價格
面議型號
LR 1000 basic Package品牌
IKA產(chǎn)地
德國樣本
暫無適用溫度(℃):
120 °C調(diào)速范圍:
10 - 150 rpm分散輪直徑(mm):
*全容積(m3):
1000 ml能耗:
*處理量:
500 ml物料類型:
其它工作原理:
臥式看了IKA 高粘度反應釜 LR 1000 basic Package的用戶又看了
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
**使用容積 | 1000 ml |
不帶分散刀具的*小樣品處理量 | 500 ml |
**工作溫度 | 120 °C |
可達到真空 | 25 mbar |
**粘度 | 100000 mPas |
速度范圍 | 10 - 150 rpm |
支桿直徑(含集成固定支架) | 16 mm |
物料接觸部分材料 | AISI 316L, 1.4571, 硼硅鹽玻璃 3.3, PTFE, PEEK, FKM |
反應容器開口(件數(shù)/標準) | 1/NS 29/32, 3/NS 14/23 |
允許連續(xù)運轉時間 | 100 % |
溫度測量精度 | 0.1 K |
額定轉矩 | 3 Nm |
加熱輸出功率 | 1000 W |
冷卻介質允許工作壓力 | 1 bar |
*小轉速 (可調(diào)節(jié)) | 10 rpm |
**加熱溫度 | 180 °C |
可調(diào)的安全回路 | 47 - 225 °C |
可調(diào)的安全回路,偏差 | ±10 - ±20 K |
冷卻介質*低溫度 | 3 °C |
加熱溫度控制精確度 | ±1 K |
帶傳感器控溫精確度 | ±0.2 K |
轉速偏差 | ±5 rpm |
轉速顯示 | LED七分區(qū) |
加熱溫度控制 | LED |
外接溫度傳感器接口 | PT 100 |
計時器 | 是 |
計時器顯示 | LED七分區(qū) |
轉速控制 | 1 RPM/步 |
冷卻方式 | 流量 |
溫度顯示 | 是 |
安全溫度顯示 | LED |
外接傳感器使用顯示 | 是 |
保險斷路 | 是 |
外形尺寸 | 443 x 360 x 295 mm |
重量 | 21.897 kg |
允許環(huán)境溫度 | 5 - 40 °C |
允許相對濕度 | 80 % |
DIN EN 60529 保護方式 | IP 21 |
RS 232接口 | 是 |
USB接口 | 是 |
電壓 | 230 V |
頻率 | 50/60 Hz |
儀器輸入功率 | 1200 W |
其他可用電壓( (230 V / 115 V)
LR1000基本型是模塊化可擴展的實驗室反應釜,可用于實驗室規(guī)模生產(chǎn)和優(yōu)化化學反應過程,如混合、分散、勻漿等。該系統(tǒng)適用于廣泛的應用領域并能滿足某些行業(yè)的特殊要求,尤其是化妝品和制藥行業(yè)。介質的溫度可高達120oC。可以通過容器底部的加熱來達到介質的設定溫度。PT100.30溫度傳感器和LR1000.61傳感器固定裝置都包含在套裝里面。 -數(shù)字顯示便于溫度和轉速的監(jiān)控 -可擴展搭配ULTRA- TURRAX? T 25數(shù)顯型使用(選配件) -釜蓋上的標準適配器可靈活適配更多應用:1x NS 29, 3x NS 14 -交貨清單里包含真空接頭 -錨式攪拌槳,帶PTFE刮片(選配件) -可通過背部的接口連接外部冷卻器 -手動可調(diào)安全回路 -當容器或釜蓋從底部取走時,一體化關閉安全系統(tǒng)。
暫無數(shù)據(jù)!
2023年12月15-17日,以“藥物制劑新型工業(yè)化——創(chuàng)新 智能 科學監(jiān)管”為主題的2023年中國藥學會工業(yè)藥劑學大會在南京召開。共分1場開幕式主論壇、4場專題分論壇、1場專業(yè)委員會工作會議,圍繞新
2023年11月3日,英國羅維朋攜手東南科儀舉辦的PFXi系列全自動色度儀用戶交流會取得圓滿成功。會議邀請了英國羅維朋國際銷售經(jīng)理Matt Boeck 先生、英國羅維朋產(chǎn)品經(jīng)理Matt Ru
環(huán)保節(jié)能:新款 KB ECO 和 KB 系列的其他培養(yǎng)箱一樣,這款產(chǎn)品能溫和處理樣品,并且性能強大——但也有不同之處:新款低溫培養(yǎng)箱 KB ECO 系列更節(jié)能,并且更加環(huán)保。&nb
陰極銅是工業(yè)銅的一種,具有較優(yōu)良的導電性、導熱性、延展性、耐腐蝕性、耐磨性等特點,常加工成銅線、銅棒、銅板帶、銅箔以及各類合金產(chǎn)品,廣泛應用于電力、電子、交通設備、機械制造、建筑工業(yè)、國防工業(yè)、醫(yī)學、
背景介紹隨著半導體技術的進步,設備微型化和集成化程度不斷提高,對制造環(huán)境的要求也越來越高。特別是在先進工藝節(jié)點(如7nm、5nm及更小節(jié)點)中,高TOC(總有機碳)水平可能導致晶圓表面污染
2024年,阿美特克-博勒飛推出了全新一代HPQA-Helipath 快速升降支架。鑒于新品使用過程中,用戶可能遇到的問題或困惑,做一個概括性的Q&A。Q:HPQA上具有運動速度編輯功能嗎?最