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        Plasma 3000 雙向觀測ICP光譜儀
        Plasma 3000 雙向觀測ICP光譜儀

        參考價(jià)格

        面議

        型號(hào)

        Plasma 3000

        品牌

        產(chǎn)地

        北京

        樣本

        暫無
        鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司

        會(huì)員

        |

        第4年

        |

        代理商

        工商已核實(shí)

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          .
        • 誤差率:

          .
        • 分辨率:

          .
        • 重現(xiàn)性:

          .
        • 儀器原理:

          其他
        • 分散方式:

          .
        • 測量時(shí)間:

          .
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        Plasma 3000 雙向觀測ICP光譜儀

        產(chǎn)品詳情

        儀器類型全譜型ICP觀測方式雙向觀測矩管放置垂直放置
        震蕩頻率27.12MHz頻率穩(wěn)定性優(yōu)于0.01%功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%
        光源類型固態(tài)光源光柵類型中階梯光柵檢測器類型背照式CCD
        儀器尺寸106cm*67cm*75cm儀器重量180kg

         鋼研納克ICP光譜儀,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位。央企品牌,上市公司,品質(zhì)之選!歡迎來電洽談。聯(lián)系電話:400-62******。

        儀器介紹

        Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

        Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。

        固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

        高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

        功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

        技術(shù)參數(shù)

        Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

        檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L)
        長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

        光源:固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

        輸出功率:500W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1% 

        儀器規(guī)格:尺寸:寬 x 深 x 高(2650px x 1675px x 1875px) 重  量:約 180kg

        光學(xué)系統(tǒng):分析譜線范圍:165-950nm

        分  辨  率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

        CCD 像素:1024x 1024;單像素面積:24μm x 24μm 

        實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.995%

        排  風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)

        電  源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA


        儀器特點(diǎn)

        分光系統(tǒng)

        Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測與軸向觀測設(shè)計(jì),適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機(jī)即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。


        光源

        固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測試,均能獲得優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù),**程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,保證準(zhǔn)確的測量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。

        簡潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠。


        進(jìn)樣系統(tǒng)

        簡潔的炬管安裝設(shè)計(jì),自動(dòng)定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn)。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸(HF) 等樣品的測試。

        使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

         

        檢測器

        大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中**靶面尺寸,***像素,單像素面積24μm X 24μm,三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

         

        軟件系統(tǒng)

        人性化的界面設(shè)計(jì),流暢易懂,簡便易用,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復(fù)雜的方法開發(fā), 即可快速開展分析操作。

        豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設(shè)置,直觀的測試結(jié)果顯示。

         

        安全防護(hù)

        全方位電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測窗


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        用戶評(píng)論

        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
        評(píng)論內(nèi)容
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