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設(shè)備用途:用于對(duì)鋰電池正極涂布的面密度(單位面積的重量)進(jìn)行非接觸式在線檢測(cè)。
測(cè)量原理:X射線屬于電磁波,X射線穿透鋰電池正極涂布極片時(shí),發(fā)生強(qiáng)度衰減,其衰減符合指數(shù)規(guī)律,與涂布面密度相關(guān),依據(jù)探測(cè)射線的衰減實(shí)現(xiàn)涂布面密度的測(cè)量。鈷酸鋰,錳酸鋰,磷酸鐵鋰,三元等正極材料等效原子序數(shù)高,與基材鋁箔相比,對(duì)于X射線的吸收系數(shù)比較大,
所以基材的正常波動(dòng)對(duì)測(cè)量結(jié)果影響很小。
設(shè)備特點(diǎn):
1、 光斑?。浩涔獍呶锢沓叽?mm*6mm、6mm*9mm、6mm*12mm等多種規(guī)格,具有很高的空間分辨能力,極片抖動(dòng)對(duì)測(cè)量無影響。
2、 實(shí)現(xiàn)**測(cè)量:可根據(jù)正極涂布的具體規(guī)格,控制調(diào)節(jié)X光機(jī)的管電壓、管電流等參數(shù),構(gòu)造**的測(cè)量條件,。
3、 獨(dú)特的長(zhǎng)壽命設(shè)計(jì):X射線發(fā)生器采用上電軟啟動(dòng)、雙24位ADC雙獨(dú)立閉環(huán)控制、油侵風(fēng)冷散熱等技術(shù),保護(hù)核心部件X光管10年不老化,探測(cè)器采用精密焊接密封工藝,保證核心電離室30年不漏氣。
4、 高精度O型掃描架:使用高慣性矩鋼結(jié)構(gòu)厚壁管梁整體掃描O型框架,掃描基面采用數(shù)控中心一次定位加工,位置精度高,整體穩(wěn)定性強(qiáng),已取得**。
5、 不斷帶標(biāo)定裝置:測(cè)量?jī)x安裝有標(biāo)定裝置,不必?cái)鄮?,十分方便用戶?duì)測(cè)量?jī)x進(jìn)行在線標(biāo)定,已取得**。
6、 豁免級(jí)防護(hù):距離設(shè)備表面10cm處,劑量率不超過1μSv/h。
7、 閉環(huán)控制功能:具備與涂布機(jī)聯(lián)機(jī)的功能,可實(shí)現(xiàn)涂布質(zhì)量閉環(huán)控制。
8、 多架同位測(cè)量功能:具備多架測(cè)量?jī)x聯(lián)機(jī)測(cè)量功能,沿同一軌跡跟蹤測(cè)量,得到凈涂布面密度。
技術(shù)指標(biāo):
1、 面密度測(cè)量精度(2σ):±0.1%;
2、 重復(fù)測(cè)量精度(2σ):±0.05%;
3、 測(cè)量范圍:0~1000g/m2;
4、 X射線發(fā)生器陽極電壓:5~20kV;
5、 系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間(硬件):小于1ms,測(cè)量反應(yīng)時(shí)間可編程控制;
6、 掃描速度:0~0.5m/s;
7、 掃描同步精度:0.04mm;
8、 光電編碼器定位精度:0.02mm;
9、 平均無故障時(shí)間:X射線發(fā)生器50000h;X射線探測(cè)器80000h。
輻射防護(hù):距離設(shè)備表面10cm處,劑量率不超過1μSv/h,達(dá)到豁免等級(jí),無需辦理輻射安全許可證。
XCH12000型鋰電面密度測(cè)量?jī)x
XCH12000微光斑X射線面密度測(cè)量?jī)x
1、實(shí)現(xiàn)兩側(cè)和頭尾削薄區(qū)域的有效測(cè)量:可以給出極片兩側(cè)邊緣和首尾兩端的輪廓情況。
2、 超小微光斑:測(cè)量點(diǎn)的尺寸小,檢測(cè)區(qū)域精細(xì),具有很高的空間響應(yīng)能力和分辨能力,測(cè)量更加精細(xì)敏感,給出數(shù)據(jù)可反映出極片上的裂縫,刮痕,斑點(diǎn)等小的瑕疵缺陷。
3、 特殊的與微光斑相匹配的射線探測(cè)器:經(jīng)信噪比優(yōu)化設(shè)計(jì),提高射線探測(cè)效率,并配合多種環(huán)境測(cè)量傳感器補(bǔ)償環(huán)境影響,修正測(cè)量結(jié)果。
輸出X射線微光斑尺寸6mm*6mm 輸出X射線微光斑尺寸:6mm*9mm
專用的微光斑X射線發(fā)生器 專用的微光斑X射線探測(cè)器
微光斑X射線測(cè)量到的極片邊緣輪廓
微光斑X射線測(cè)量到的極片兩側(cè)邊緣輪廓
XCH5000超軟X射線面密度測(cè)量?jī)x(隔膜面密度測(cè)量?jī)x)
設(shè)備用途:用于對(duì)鋰電池隔膜的面密度(單位面積的重量)進(jìn)行非接觸式在線檢測(cè)。
測(cè)量原理:針對(duì)鋰電池隔膜的等效原子序數(shù)低,面密度小的材質(zhì)特點(diǎn),使用超軟X射線(依據(jù)射線穿透物質(zhì)的能力,將能量低于5KeV的X射線稱之為超軟X射線)透射隔膜,探測(cè)隔膜對(duì)超軟X射線的吸收,實(shí)現(xiàn)對(duì)隔膜面密度的測(cè)量。由于隔膜的陶瓷涂層對(duì)超軟X射線的吸收遠(yuǎn)大于基材,因此射線的透射衰減主要反映了涂層面密度的變化,而對(duì)基材不敏感,因此,基材的正常波動(dòng)不影響測(cè)量結(jié)果。
設(shè)備特點(diǎn):
1、 超軟X射線:使用的超軟X射線裝置,射線能量低于5KeV,屬于《GB18871-2002電離輻射防護(hù)與輻射源安全基本標(biāo)準(zhǔn)》豁免要求的等級(jí),安全、環(huán)保;
2、 專用的射線發(fā)生器:依據(jù)隔膜材質(zhì)特性,設(shè)計(jì)專用的超軟X射線發(fā)神器,以構(gòu)造**的測(cè)量條件,適合于隔膜測(cè)量,隔膜的微孔結(jié)構(gòu)、走帶抖動(dòng)、自身溫度、顏色及透光率的變化不影響測(cè)量結(jié)果,經(jīng)長(zhǎng)壽命設(shè)計(jì),確保10年不老化。
3、 專用的探測(cè)探測(cè)器:采用特殊材料構(gòu)造射線窗,設(shè)計(jì)出高探測(cè)效率、低信號(hào)漂移的射線探測(cè)器,對(duì)空氣溫度、濕度、壓強(qiáng)、氣體密度等環(huán)境參數(shù)實(shí)時(shí)檢測(cè),抵償環(huán)境的變化的影響,測(cè)量結(jié)果穩(wěn)定可靠。
技術(shù)指標(biāo):
1、 測(cè)量精度(2σ):±0.2%;
2、 隔膜測(cè)量范圍:0~100g/m2;
3、 X射線發(fā)生器的射線管電壓: 5kV以下(常用管電壓4.950kV);
4、 系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間(硬件):小于1ms,測(cè)量反應(yīng)時(shí)間可編程控制;
5、 掃描速度:0~0.5m/s;
6、 掃描同步精度:0.04mm;
7、 光電編碼器定位精度:0.02mm;
8、 平均無故障時(shí)間:X射線發(fā)生器50000h;X射線探測(cè)器80000h。
輻射防護(hù):產(chǎn)生的**輻射能量不大于5KeV,屬于《GB18871-2002電離輻射防護(hù)與輻射源安全基本標(biāo)準(zhǔn)》要求的輻射豁免等級(jí),無需辦理輻射安全許可證。
XCH5000超軟X射線面密度測(cè)量?jī)x(隔膜面密度測(cè)量?jī)x)
BCH25100β射線面密度測(cè)量?jī)x
設(shè)備用途:用于對(duì)鋰電池負(fù)極涂布的面密度(單位面積的重量)進(jìn)行非接觸式在線檢測(cè)。
測(cè)量原理:β射線屬于帶電粒子流,β射線穿透鋰電池負(fù)極涂布極片時(shí),發(fā)生強(qiáng)度衰減,其衰減符合指數(shù)規(guī)律,與涂布面密度相關(guān),依據(jù)探測(cè)射線的衰減實(shí)現(xiàn)涂布面密度的測(cè)量。慮鋰電池負(fù)極材料的結(jié)構(gòu)形式,材料的原子系數(shù),以及面密度的范圍,本裝置選用β放射源Kr85。
設(shè)備特點(diǎn):
1、 具有**的放射源防護(hù)裝置:所使用的β放射源為V類源,安全危害極低,并采用多重材料復(fù)合屏蔽防護(hù),使用電動(dòng)閘閥打開和關(guān)閉射線,輻射劑量達(dá)到環(huán)保要求<1μSv/h,該放射源的防護(hù)裝置已取得國(guó)家**。
2、 多種規(guī)格射線束供用戶選擇:射線束尺寸φ9.5mm、φ12mm、φ18mm、φ22mm,用戶可根據(jù)需求選擇。
3、 邊緣和首尾輪廓測(cè)量功能:可采用3mm*38mm的微孔Kr85放射源,用于負(fù)極極片涂布兩側(cè)削薄區(qū)的測(cè)量、首尾區(qū)域輪廓的測(cè)量。
4、 專用的β射線探測(cè)器:采用特殊材質(zhì)窗口,多層電極的電離室結(jié)構(gòu),探測(cè)效率高,穩(wěn)定性好,在使用0~2Ci活度放射源的情況下,電離室均工作在高線性區(qū),不會(huì)出現(xiàn)飽和而引起非線性的情況。β射線探測(cè)器的電離室采用精密焊接密封工藝,保證核心電離室30年不漏氣。
5、 閉環(huán)控制功能:具備與涂布機(jī)聯(lián)機(jī)的功能,可實(shí)現(xiàn)涂布質(zhì)量閉環(huán)控制。
6、 多架同位測(cè)量功能:具備多架測(cè)量?jī)x聯(lián)機(jī)測(cè)量功能,沿同一軌跡跟蹤測(cè)量,得到凈涂布面密度。
技術(shù)指標(biāo):
1、 面密度測(cè)量精度(2σ):±0.15%;
2、 重復(fù)測(cè)量精度(2σ):±0.08%;
3、 測(cè)量范圍:1000g/m2以下;
4、 β射線源:Kr85,半衰期:10.76年;
5、 放射源活度:200mCi,300mCi,1000mCi(依據(jù)被測(cè)極片規(guī)格)。
6、 系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間(硬件):小于1ms,測(cè)量反應(yīng)時(shí)間可編程控制;
7、 掃描速度:**0.5m/s;
8、 掃描同步精度:0.1mm;定位精度:0.04mm;
9、 平均無故障時(shí)間:β射線探測(cè)器80000h。
輻射防護(hù):采用多重材料復(fù)合防護(hù),距離設(shè)備表面0.1m,輻射劑量率不超過1μSv/h(V類源)。
BCH25100 β 射線面密度測(cè)量?jī)x
Kr85放射源
高性能β射線探測(cè)器
公司放射源源庫,業(yè)內(nèi)**一家具有β放射源銷售資質(zhì)的企業(yè):
涂布質(zhì)量閉環(huán)控制
控制目的:閉環(huán)控制器根據(jù)測(cè)厚儀給出的涂布面密度測(cè)量值,自動(dòng)調(diào)節(jié)漿料輸送螺桿泵的泵速,使得縱向(走帶方向)涂布量在工藝標(biāo)準(zhǔn)要求的界限之內(nèi),避免超差,以達(dá)到提高涂布重量一致性,減少人工干預(yù)的目的。閉環(huán)控制的應(yīng)用效果如下:降低了對(duì)工人技術(shù)經(jīng)驗(yàn)的要求,可降低因經(jīng)驗(yàn)不足導(dǎo)致的殘次品率;可有效彌補(bǔ)因操作人員的工作疲勞造成的失誤;減少對(duì)人工的依賴,能夠達(dá)到減員增效的效果。
控制原理:鑒于現(xiàn)有涂布機(jī)技術(shù)條件,影響涂布面密度一致性的因素主要是極片走帶方向,走帶方向重量一致性是靠泵速控制。測(cè)量?jī)x通過檢測(cè),經(jīng)PLC進(jìn)行運(yùn)算數(shù)據(jù)比對(duì)分析,來驅(qū)動(dòng)伺服電機(jī)控制涂布機(jī)的上的泵速,從而達(dá)到閉環(huán)控制的效果。
控制算法:針對(duì)在涂布量閉環(huán)控制中,由于傳輸?shù)难舆t,被控制對(duì)象具有純滯后性質(zhì)引起系統(tǒng)產(chǎn)生超調(diào)或者振蕩的特點(diǎn),采用基于史密斯補(bǔ)償?shù)膯紊窠?jīng)元PID控制策略,作為具有純滯后補(bǔ)償?shù)臄?shù)字控制器。
電氣組成:測(cè)厚儀PLC給出的泵速信號(hào)可以采用數(shù)據(jù)信號(hào)或者標(biāo)準(zhǔn)變送信號(hào),采用數(shù)據(jù)信號(hào)時(shí)用通訊接口(網(wǎng)絡(luò)接口或者標(biāo)準(zhǔn)串行口)傳送,采用標(biāo)準(zhǔn)變送信號(hào)時(shí),與定量泵控制器的AD接口對(duì)接傳送。
多架面密度測(cè)量?jī)x同位測(cè)量系統(tǒng)
測(cè)量原理:通過對(duì)掃描軌跡同位控制技術(shù)實(shí)現(xiàn)多架測(cè)量?jī)x對(duì)同一軌跡的涂布面密度的精確測(cè)量,通過同位測(cè)量數(shù)據(jù)相減即可得到每次單面涂布或者雙面面密度。適用于鋰電池正、負(fù)極片連續(xù)單雙面涂布精確測(cè)量。
實(shí)現(xiàn)方法:多架系統(tǒng)中采用高精度、高分辨率光電編碼器精確檢測(cè)線速度,通過CAN總線實(shí)現(xiàn)快速實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)傳輸,依據(jù)檢測(cè)維持掃描角度,從而保持前后兩個(gè)掃描架實(shí)現(xiàn)同點(diǎn)對(duì)應(yīng)檢測(cè)。同點(diǎn)對(duì)應(yīng)檢測(cè)所顯示的剖面,有利于工藝和質(zhì)量人員對(duì)兩個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比分析,從而發(fā)現(xiàn)問題,優(yōu)化工藝,提高質(zhì)量。
主要參數(shù):
1、 適用的涂布速度:**50m/min;
2、 掃描同步精度:0.06mm;
3、 同位測(cè)量軌跡**偏離:3-5mm。
掃描軌跡
人機(jī)交互
暫無數(shù)據(jù)!