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10-20萬元型號
HTF1200-5/20-4F-HV品牌
皓越科技產(chǎn)地
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產(chǎn)品應用
高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設備，廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。
產(chǎn)品特點
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機組、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。
1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;
2、生長腔體采用進口高純石英管，配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;
3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維，不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲，溫場均勻，能耗低；
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì)，配水冷套，可連續(xù)長時間工作;
5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);
6、氣體種類： He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6；
7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制，通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數(shù)，自動保存實驗參數(shù)，也可采用手動控制；
8、系統(tǒng)采用集成化設計，控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子，方便整體移動。
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上海皓越產(chǎn)品圖片 
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