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            浸漬提拉鍍膜機(jī)
            浸漬提拉鍍膜機(jī)

            參考價(jià)格

            面議

            型號

            SYDC-200型

            品牌

            產(chǎn)地

            樣本

            暫無
            上海三研科技有限公司.

            會員

            |

            第8年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

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            SYDC-200型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī)(Dip   Coater)是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì),對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

            一.    產(chǎn)品應(yīng)用

            本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度,液體濃度和液體粘度決定。

            二.    產(chǎn)品簡介

            浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì),對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

            適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

            三.    產(chǎn)品特點(diǎn)

            1.    采用伺服電機(jī)驅(qū)動。配合原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時的高精度、平滑性、無抖動等特點(diǎn)是步進(jìn)電機(jī)不可比擬的。

            2.    **升級為德國原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置部件。采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動無間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、終身免維護(hù)、使用壽命長等特點(diǎn)。

            3.    多參數(shù)全自動程序控制。共有六個參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運(yùn)行。

            4.    高、低速均運(yùn)行平穩(wěn),鍍膜時液面無振動,使膜層更均勻、無條紋

            5.    4.3寸液晶觸摸屏控制。運(yùn)行時,各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程;

            6.    特殊設(shè)計(jì)的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片;

            7.    上下兩端均安裝有限位傳感器,提拉或下降運(yùn)行時,到限位處自動停止,避免提拉或下降的超限運(yùn)行。

            四.    技術(shù)參數(shù)

            1.    提拉速度范圍:18000 μm/s,*小分辨率1μm/s;

            2.    速度精度:-0.02%+0.02%

            3.    **行程:約260 mm

            4.    可鍍膜基片尺寸:MIN 10×10 mmMAX 200×200 mm,厚度MAX 10mm

            5.    浸漬時間:13600 s,*小分辨率1s

            6.    循環(huán)鍍膜次數(shù):11000次,*少1次;

            7.    每次鍍膜間隔時間:13600 s,*小分辨率1s;

            8.    電源:220V/50Hz 。

            創(chuàng)新點(diǎn)

            提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

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            10分

            易用性

            10分

            性價(jià)比

            10分
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