編號：NMJS02787
篇名：電泳沉積制備平行柵碳納米管場發(fā)射陰極的研究
作者：張永愛； 林金陽； 吳朝興； 鄭泳； 林志賢； 郭太良；
關(guān)鍵詞：碳納米管； 平行柵； 場發(fā)射； 電泳； 絲網(wǎng)印刷；
機(jī)構(gòu)： 福州大學(xué)物理與信息工程學(xué)院；
摘要： 利用磁控濺射、光刻、濕法刻蝕和電泳技術(shù)在玻璃基片上成功制備平行柵場發(fā)射陰極陣列,用光學(xué)顯微鏡、場發(fā)射掃描電鏡和拉曼光譜觀察了碳納米管的形貌和結(jié)構(gòu),并測試所制備的平行柵碳納米管陰極的場發(fā)射性能。光學(xué)顯微鏡和場發(fā)射電子顯微鏡測試表明,平行柵結(jié)構(gòu)陰極和柵極交替地分布,同一個(gè)平面內(nèi),CNTs有選擇性地沉積在平行柵結(jié)構(gòu)中的陰極表面。場發(fā)射測試表明,平行柵CNTs場發(fā)射陰極的開啟電壓為155V,發(fā)射電流高達(dá)268μA,場發(fā)射特性完全由柵壓控制;此外,其場發(fā)射特性與絲網(wǎng)印刷工藝制備的陰極有相似甚至更佳的性能,開啟電壓更低,發(fā)光均勻性更好,具有更好的發(fā)射特性。
