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        CdS納米復(fù)合粒子的制備和光催化性能研究

        編號:NMJS02660

        篇名:CdS納米復(fù)合粒子的制備和光催化性能研究

        作者:閆國倫; 項本平; 徐曉敏;

        關(guān)鍵詞:逐層自組裝; 納米復(fù)合粒子; 光催化;

        機構(gòu): 江陰職業(yè)技術(shù)學院化學紡織工程系;

        摘要: 為獲得顆粒尺寸、形貌等比較規(guī)則的納米CdS顆粒,通過逐層自組裝技術(shù)和"兩步法"相結(jié)合的方法在介孔分子篩SBA-15孔道內(nèi)制備CdS納米粒子,首先應(yīng)用帶電聚合物聚二烯丙基二甲基氯化銨(PDDA)、聚苯乙烯磺酸鈉(PSS)將SBA-15孔道表面功能化,然后引入CdS前驅(qū)體Cd(CH3COO)2.2H2O,再將產(chǎn)物在H2S氣氛中硫化得到最終產(chǎn)物SBA-15-PDDA-PSS-CdS。采用X射線衍射、N2吸附-脫附等手段進行測試表征,并將所制樣品用于降解甲基橙來測試其光催化性能。結(jié)果表明:所制得的納米CdS顆粒較小,分布均勻;納米CdS在紫外光下對甲基橙具有良好的降解能力。

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