編號(hào)：NMJS02432
篇名：Al/ZnO/Al薄膜的結(jié)構(gòu)與磁性分析
作者：豈云開(kāi)； 顧建軍； 劉力虎； 張海峰； 徐芹； 孫會(huì)元；
關(guān)鍵詞：Al/ZnO/Al薄膜； 鐵磁性； 磁性表征；
機(jī)構(gòu)： 河北師范大學(xué)物理科學(xué)與信息工程學(xué)院； 河北省新型薄膜材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室； 河北民族師范學(xué)院物理系；
摘要： 采用直流磁控濺射的方法制備了Al/ZnO/Al納米薄膜,并對(duì)薄膜分別在真空及空氣中進(jìn)行退火處理.利用X射線衍射儀(XRD)和物理性能測(cè)量?jī)x(PPMS)分別對(duì)薄膜樣品的結(jié)構(gòu)和磁性進(jìn)行了表征.XRD分析表明,不同的退火氛圍對(duì)薄膜的微結(jié)構(gòu)有著很大的影響.采用了一種新的修正方法對(duì)磁測(cè)量結(jié)果進(jìn)行修正,計(jì)算了基底擬合誤差的最大值,并對(duì)修正后樣品的磁性進(jìn)行了分析.結(jié)果顯示,室溫鐵磁性可能與Al和ZnO基體之間發(fā)生的電荷轉(zhuǎn)移以及在不同退火氛圍下Al在ZnO晶格中的地位變化有關(guān).
