編號：NMJS02416
篇名：聚酰亞胺/碳化硅納米材料的制備及性能研究
作者：陳�。� 陳江聰； 賀國文； 李�。�
關(guān)鍵詞：聚酰亞胺； SiC； 制備； 表征；
機(jī)構(gòu)： 中南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院；
摘要： 用原位聚合法制備了聚酰亞胺/SiC復(fù)合膜,SiC使用偶聯(lián)劑(3-氨丙基-三乙氧基硅烷)改性,采用FT-IR、SEM、TGA等對雜化膜的化學(xué)結(jié)構(gòu)和形態(tài)進(jìn)行表征和分析。結(jié)果表明:偶聯(lián)劑改性SiC成功,在含量為3%時,改性SiC在PI基體中分散效果比未改性SiC要好;偶聯(lián)劑的加入對PI和SiC的結(jié)晶性能有少量影響,對PI復(fù)合膜的熱穩(wěn)定性幾乎沒有影響。
