編號(hào)：NMJS02383
篇名：氮分壓對(duì)Ta–N薄膜摩擦性能的影響
作者：嚴(yán)學(xué)華； 尹君； 程曉農(nóng)；
關(guān)鍵詞：氮化鉭薄膜； 納米硬度； 彈性模量； 表面形貌； 摩擦性能；
機(jī)構(gòu)： 江蘇大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院；
摘要： 在氮?dú)夂蜌鍤獾幕旌蠚夥罩?在不同N2分壓下,用直流磁控濺射法在Si基片上沉積非晶態(tài)Ta–N薄膜。利用X射線衍射儀、原子力顯微鏡、臺(tái)階儀和納米壓痕儀、光學(xué)輪廓儀和掃描電子顯微鏡對(duì)沉積的薄膜進(jìn)行表征。結(jié)果表明:不同N2分壓下沉積的薄膜都有平整且致密的表面,表面均方根粗糙度都較小;隨著N2分壓的上升,薄膜沉積速率、納米硬度和彈性模量都隨之下降。所制備薄膜在室溫、空氣環(huán)境中具有穩(wěn)定的滑動(dòng)摩擦因數(shù);當(dāng)N2分壓為混合氣體的10%(體積分?jǐn)?shù))時(shí),薄膜的摩擦因數(shù)最低,僅為0.27,但由于硬度較低,其磨損也相對(duì)較為嚴(yán)重。
