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        應(yīng)用于場致發(fā)射的摻雜納米金剛石膜的研究

        編號:NMJS02266

        篇名:應(yīng)用于場致發(fā)射的摻雜納米金剛石膜的研究

        作者:陳冠虎; 汪建華; 熊禮威; 翁俊; 王文君;

        關(guān)鍵詞:場致發(fā)射; 納米金剛石薄膜; 摻雜;

        機構(gòu): 武漢工程大學(xué)材料與工程學(xué)院湖北省等離子體化學(xué)與新材料重點實驗室;

        摘要: 場致發(fā)射是一種新型顯示技術(shù),具有良好應(yīng)用前景,場發(fā)射顯示器的核心內(nèi)容是場發(fā)射陰極材料,納米金剛石由于低表面粗糙度、低場發(fā)射強度、高發(fā)射電流密度、大比表面積、網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)以及高密度懸掛鍵等優(yōu)秀電化學(xué)性能成為場發(fā)射的理想陰極材料。本文闡述了化學(xué)氣相沉積法制備納米金剛石薄膜的沉積裝置、預(yù)處理和工藝參數(shù),并介紹了金剛石摻雜機理和摻入元素的研究現(xiàn)狀。

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