編號(hào)：NMJS02258
篇名：用于納米光刻的超分辨縮小成像平板超透鏡研究
作者：李恒一； 王長(zhǎng)濤； 羅先剛；
關(guān)鍵詞：納米光刻； 超分辨成像； 表面等離子體； 超透鏡；
機(jī)構(gòu)： 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所微細(xì)加工光學(xué)技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室； 中國(guó)科學(xué)院研究生院；
摘要： 本文提出和研究了利用超分辨縮小成像平板超透鏡,在i線光源波長(zhǎng)下實(shí)現(xiàn)納米尺度光刻方法。為了在超分辨透鏡像面位置獲得高質(zhì)量的光刻圖形,采用超分辨透鏡-光刻膠-反射銀膜的結(jié)構(gòu)方式,解決由于超透鏡磁場(chǎng)偏振傳輸模式帶來(lái)的成像光場(chǎng)畸變問(wèn)題,大大提高了成像質(zhì)量和光場(chǎng)對(duì)比度。采用掩模圖形結(jié)構(gòu)預(yù)補(bǔ)償?shù)姆椒?消除超分辨透鏡的倍率畸變像差影響�；谟邢拊姶庞�(jì)算方法,數(shù)值模擬結(jié)果驗(yàn)證了該方法在i線光源波長(zhǎng)下實(shí)現(xiàn)納米尺度縮小成像光刻的可能性。在i線(365nm)光源波長(zhǎng)下,得到約35nm線寬的高對(duì)比成像光場(chǎng)模擬結(jié)果,并分析了結(jié)構(gòu)參數(shù)變化對(duì)成像光場(chǎng)帶來(lái)的影響。
