編號：NMJS02219
篇名：化學(xué)腐蝕法制備發(fā)光硅納米顆粒
作者：吳悅迪； 朱駿； 劉紅飛； 陳海濤； 陳小兵；
關(guān)鍵詞：硅納米晶； 化學(xué)腐蝕； 光致發(fā)光； 量子限制效應(yīng)；
機(jī)構(gòu)： 揚(yáng)州大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院；
摘要： 用硝酸和氫氟酸的混合酸液腐蝕普通硅粉,經(jīng)過超聲空化作用,分別在去離子水、無水乙醇中制備出硅納米晶顆粒.硅納米顆粒的平均粒徑約為2 nm,它們或單獨(dú)存在,或包裹于非晶態(tài)物質(zhì)中.在320 nm的光激發(fā)下,硅納米顆粒的懸浮液在390 nm處呈現(xiàn)一明顯的紫外發(fā)光峰,理論分析證明該發(fā)光峰與硅量子點(diǎn)的量子限制效應(yīng)有關(guān).
