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        利用小角X射線散射技術(shù)研究組分對聚酰亞胺/Al_2O_3雜化薄膜界面特性與分形特征的影響

        編號:NMJS02158

        篇名:利用小角X射線散射技術(shù)研究組分對聚酰亞胺/Al_2O_3雜化薄膜界面特性與分形特征的影響

        作者:劉曉旭; 殷景華; 程偉東; 卜文斌; 范勇; 吳忠華;

        關(guān)鍵詞:小角X射線散射; 納米雜化; 聚酰亞胺; 界面;

        機(jī)構(gòu): 哈爾濱理工大學(xué)應(yīng)用科學(xué)學(xué)院; 黑龍江科技學(xué)院實(shí)訓(xùn)中心; 工程電介質(zhì)及其應(yīng)用技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 中國科學(xué)院高能物理研究所同步輻射室;

        摘要: 采用溶膠-凝膠方法制備無機(jī)納米雜化聚酰亞胺(PI),應(yīng)用同步輻射小角X射線散射(SAXS)方法研究不同組分雜化PI薄膜的界面特性與分形特征.研究結(jié)果表明散射曲線不遵守Porod定理,形成負(fù)偏離,說明薄膜中有機(jī)相與Al2O3納米顆粒間存在界面層,界面層厚度在0.54nm到1.48nm范圍內(nèi);隨無機(jī)納米組分增加,界面層厚度增加,有機(jī)相與無機(jī)相作用變強(qiáng);無機(jī)納米顆粒同時具有質(zhì)量分形和表面分形特征,其分布、集結(jié)是一種非線性動力學(xué)過程;隨組分增加,其質(zhì)量分形維數(shù)降低,表面分形維數(shù)升高,即納米顆粒結(jié)構(gòu)變疏松、質(zhì)量分布變得不均勻,有機(jī)高分子鏈對無機(jī)納米顆粒錨定作用加強(qiáng)且錨點(diǎn)數(shù)增加,表面變得更加粗糙.最后,利用逾滲理論與介質(zhì)的電極化理論,結(jié)合雜化PI界面特性,解析了組分對雜化薄膜擊穿場強(qiáng)的影響.

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