編號：NMJS02105
篇名：碳納米管鉛錫復合減摩鍍層的內(nèi)應力研究
作者：胡正西； 揭曉華； 盧國輝；
關鍵詞：復合電沉積； 碳納米管； 內(nèi)應力；
機構： 廣東工業(yè)大學材料與能源學院；
摘要： 采用復合電沉積方法在紫銅片上制備碳納米管鉛錫合金復合減摩鍍層;用陰極彎曲法研究了電流密度和鍍液溫度對碳納米管鉛錫復合鍍層內(nèi)應力的影響;在不同碳納米管濃度的鍍液中制備了復合鍍層的試樣,用X射線衍射法測定了各復合鍍層的內(nèi)應力。結果表明,碳納米管鉛錫合金復合鍍層的內(nèi)應力隨電流密度的增加而升高,但隨鍍液溫度的升高而降低。保證電流密度和鍍液溫度不變,碳納米管的含量為2 g/L,復合鍍層的內(nèi)應力降至最低;碳納米管在鍍層中的彌散分布起到了應力傳遞作用,減少了應力集中而產(chǎn)生的微裂紋。
