編號(hào)：NMJS01948
篇名：用磁控濺射法制備納米膜防輻射布的工藝探討
作者：葉毓輝； 楊志敏； 何玉蘭；
關(guān)鍵詞：磁控濺射； 納米膜； 防輻射布； 工藝；
機(jī)構(gòu)： 深圳市計(jì)量質(zhì)量檢測(cè)研究院；
摘要： 利用磁控濺射技術(shù)在滌綸無(wú)紡布表面沉積納米結(jié)構(gòu)銀薄膜,以制得防輻射布。探討了靶基距、濺射功率、工作氣壓和進(jìn)氣量等工藝條件對(duì)薄膜屏蔽效能的影響。結(jié)果表明在時(shí)間規(guī)定條件下,對(duì)屏蔽效能影響大小的排序是:工作氣壓>靶基距>進(jìn)氣量>濺射功率。
