編號：NMJS01862
篇名：原位聚合法制備聚合物/納米SiO2復(fù)合材料的研究進(jìn)展
作者：陳方飛； 李小紅； 張治軍；
關(guān)鍵詞：原位聚合法； 聚合物； 納米SiO2； 復(fù)合材料； 研究進(jìn)展；
機(jī)構(gòu)： 河南大學(xué)特種功能材料教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室；
摘要： 納米SiO2改性聚合物制備的關(guān)鍵在于提高納米粒子與聚合物基體的相容性及分散性;對納米SiO2進(jìn)行不同的表面改性及選擇合適的復(fù)合材料制備方法可以改變納米粒子與聚合物基體的界面結(jié)合方式以及相容性和分散性,進(jìn)而在不同程度上影響材料的性能.本文介紹了改性前后納米SiO2與聚合物基體的多種界面結(jié)合方式,對近年來利用原位聚合法制備聚合物/納米SiO2復(fù)合材料的研究現(xiàn)狀和進(jìn)展進(jìn)行了綜述.
