編號：FTJS02252
篇名：化學鍍法制備鎳包石墨復合粉末
作者：徐露露； 甘雪萍； 袁鐵錘； 李志友； 周科朝；
關鍵詞：鎳/石墨復合粉末； 化學鍍鎳； 表面形貌； 生長機理；
機構： 中南大學粉末冶金國家重點實驗室；
摘要： 采用化學鍍法在石墨粉末表面鍍鎳制備Ni/石墨復合粉末,采用激光衍射粒度分析、掃描電鏡等對Ni/石墨復合粉末的粒度和表面形貌進行表征,研究鍍液中主鹽硫酸鎳、還原劑聯(lián)氨及活化劑氯化鈀的濃度對該復合粉末表面形貌的影響,并對Ni鍍層在石墨表面的生長機理進行探討。結果表明:硫酸鎳質量濃度為20 g/L、聯(lián)氨體積分數(shù)為2%時,化學鍍沉積速率適中,Ni鍍層在石墨表面分布均勻;氯化鈀的質量濃度為0.03 g/L和0.1 g/L時,鎳顆粒細小,鍍層光滑平整;石墨表面Ni鍍層的生長時間主要在化學鍍過程的90~120 min之間,金屬鎳沉積在具有活化中心的區(qū)域,隨著反應的進行逐步將石墨表面包覆完整。
