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        Fe2+質(zhì)量濃度對納米晶Ni-Fe合金電沉積層耐蝕性的影響

        編號:NMJS01668

        篇名:Fe2+質(zhì)量濃度對納米晶Ni-Fe合金電沉積層耐蝕性的影響

        作者: 于洋; 陳吉; 儲剛; 史艷華;

        關(guān)鍵詞:鎳鐵合金; 納米晶; 電沉積; 耐蝕性;

        機構(gòu): 遼寧石油化工大學(xué)機械工程學(xué)院石油化工過程腐蝕與防護技術(shù)中心; 遼寧石油化工大學(xué)化學(xué)與材料科學(xué)學(xué)院;

        摘要: 采用直流電沉積技術(shù)在黃銅基體上制備出低Fe高Ni的納米晶Ni-Fe合金鍍層。研究不同F(xiàn)e2+質(zhì)量濃度(2~12 g/L)對合金鍍層的表面形貌、鍍層成分、相結(jié)構(gòu)、鍍層顯微硬度和耐蝕性的影響規(guī)律。實驗結(jié)果表明,電鍍Ni-Fe合金可獲得納米晶結(jié)構(gòu),當Fe2+質(zhì)量濃度為4 g/L時,硬度較高,為658 HV。在質(zhì)量分數(shù)為3.5%的NaCl溶液中,Fe2+質(zhì)量濃度為4 g/L時,合金鍍層的耐蝕性最好,自腐蝕電流密度較小,約為0.430μA/cm2,涂層電阻較大,約為143 400Ω,比基體黃銅提高約40倍。

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