編號：NMJS01325
篇名：基于磁控濺射離子鍍技術的不同晶態(tài)純Cr薄膜微觀組織結構研究
作者：李洪濤; 蔣百靈; 楊波; 曹政;
關鍵詞：柱狀晶; 等軸晶; 納米晶; 非晶;
機構： 西安理工大學材料科學與工程學院;
摘要： 基于磁控濺射離子鍍技術,制備了不同晶態(tài)結構的純Cr薄膜,分析了電場環(huán)境對純Cr薄膜晶態(tài)結構影響的客觀規(guī)律;結合濺射原理和薄膜生長原理揭示了電場環(huán)境對純Cr薄膜生長過程影響的內(nèi)在機理;探討了磁控濺射離子鍍技術在工程材料的納米化、非晶化進程中應有的功能,旨在為納米材料的研發(fā)及其制備技術的創(chuàng)新提供參考依據(jù)。
