編號(hào)：NMJS01273
篇名：納米多孔結(jié)構(gòu)鎳基復(fù)合膜電極的電化學(xué)法制備及其電容特性
作者：孔德帥; 王建明; 皮歐陽; 邵海波; 張鑒清;
關(guān)鍵詞：電化學(xué)電容器; 納米多孔結(jié)構(gòu); 氫氧化鎳; 去合金化; 比電容; 電沉積;
機(jī)構(gòu)： 浙江大學(xué)化學(xué)系; 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所腐蝕與防護(hù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
摘要： 通過對(duì)電沉積法得到的Ni-Cu合金鍍層進(jìn)行電化學(xué)去合金化處理,制備了納米多孔結(jié)構(gòu)金屬鎳膜.采用循環(huán)伏安法對(duì)多孔金屬鎳膜在1mo·lL-1KOH溶液中進(jìn)行陽極氧化處理,獲得了納米多孔結(jié)構(gòu)的鎳基復(fù)合膜電極.應(yīng)用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜(XPS)和電化學(xué)技術(shù)對(duì)所制備的膜電極的物理性質(zhì)及贗電容特性進(jìn)行了表征.SEM、XRD和XPS的測(cè)試結(jié)果表明,所制備的納米多孔結(jié)構(gòu)鎳基復(fù)合57膜8F由·gN-i1、的N初i(O始H比)2和電N容iO;在OH1組00成0次.電充化放學(xué)電實(shí)循驗(yàn)環(huán)結(jié)后果,它顯的示比,該電復(fù)容合值膜為在54240F·A·gg-1-,1的電充容保放持電率電為流密94度%下.納,給米出多孔了結(jié)構(gòu)有利于KOH電解液的滲透,從而促進(jìn)反應(yīng)物種在電極內(nèi)部的傳輸;納米多孔的金屬鎳基體可以提高Ni(OH)2膜的電子導(dǎo)電性;納米大小的Ni(OH)2顆粒能夠縮短質(zhì)子的固相擴(kuò)散路徑.上述因素是所制備的納米多孔結(jié)構(gòu)鎳基復(fù)合膜電極具有優(yōu)異贗電容特性的主要原因.
