編號:NMJS01167
篇名:稀釋劑含量對光固化納米羥基磷灰石復(fù)合材料機械性能的影響
作者:王云; 王青山;
關(guān)鍵詞:稀釋劑; 納米羥基磷灰石復(fù)合材料; 固化深度; 機械強度;
機構(gòu): 濱州醫(yī)學(xué)院附屬醫(yī)院口腔內(nèi)科;
摘要: 目的比較不同含量稀釋劑對新型光固化納米羥基磷灰石復(fù)合材料機械性能的影響。方法按照雙酚A-甲基丙烯酸縮水甘油酯(B is-GMA)與雙甲基丙烯酸二縮三乙二醇酯(TEGDMA)的質(zhì)量比8∶2、7∶3、6∶4合成三份樹脂基質(zhì),然后與經(jīng)過KH-570表面處理后的納米羥基磷灰石按質(zhì)量比為45∶55共混,制備成3組光固化納米羥基磷灰石復(fù)合樹脂,分別記為A組、B組、C組,A2型卡瑞斯瑪復(fù)合樹脂為對照組記為D組,每組制作5個試件,測定各組固化深度、抗壓強度和撓曲強度,用方差分析比較其差異。結(jié)果隨著稀釋劑比例的增加,實驗組的固化深度變化不明顯,與對照組有明顯統(tǒng)計學(xué)差異(P<0.05);實驗組壓縮強度與撓曲強度均呈現(xiàn)先升高后下降的趨勢,其中B組的抗壓強度和撓曲強度均與對照組無統(tǒng)計學(xué)差異(P>0.05)。結(jié)論樹脂基質(zhì)B is-GMA與稀釋劑TEGDMA的質(zhì)量比為7∶3時,新型光固化納米羥基磷灰石復(fù)合材料機械性能較佳,固化深度能夠達到國際標(biāo)準(zhǔn)。