編號：NMJS01143
篇名：電泳沉積法制備納米CoFe_2O_4厚膜
作者：周東祥; 鄭亞楠; 簡剛; 龔樹萍;
關(guān)鍵詞：電泳沉積; CoFe2O4厚膜; 鐵磁性能;
機(jī)構(gòu)： 華中科技大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)系;
摘要： 利用電泳沉積法在Pt/Al2O3襯底上成功制備了納米CoFe2O4厚膜,分析了電泳沉積納米CoFe2O4厚膜的影響因素。利用Zeta電勢測試儀測試了懸浮液的Zeta電勢和電導(dǎo)率,利用X射線衍射儀和場發(fā)射掃描電子顯微鏡分析了厚膜的組分和微觀形貌,利用振動樣品磁強(qiáng)計和漏電流測試儀測試了厚膜的性能。結(jié)果表明,電泳沉積法制備CoFe2O4厚膜是可行的,且沉積條件的選擇對形成良好CoFe2O4厚膜有重要影響。CoFe2O4厚膜的矯頑力和比飽和磁矩分別為225.1 kA/m和31.17 A·m2/kg,漏電流密度為3.0×10–6 A/cm2。
