編號：NMJS01126
篇名：離子束濺射沉積Al_2O_3納米薄膜AFM及XPS分析
作者：王鐵寶; 王曉東; 劉強安; 何麗靜;
關(guān)鍵詞：納米薄膜; Al2O3; 離子束沉積; 掠入射衍射; X射線衍射;
機構(gòu)： 河北工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院; 河北省安裝工程公司第二分公司; 扎努西電氣機械天津壓縮機有限公司;
摘要： 在單晶Si基片用離子束濺射沉積法制備了1~100 nm的Al2O3納米薄膜.利用原子力顯微鏡分析和研究了不同厚度Al2O3納米薄膜的表面形貌,并用X射線光電子能譜(XPS)儀和X射線衍射儀分別對100 nm的Al2O3納米薄膜表面結(jié)構(gòu)和成分進(jìn)行了表征,結(jié)果表明:薄膜厚度在1~50 nm范圍時,顆粒形態(tài)隨著薄膜厚度的變化逐漸變化,由二維生長的胞狀漸變?yōu)槎鄠�顆粒聚成的球狀.當(dāng)薄膜厚度大于50 nm時,小的球形顆粒聚成大球形顆粒,并且球形顆粒生長狀態(tài)為三維生長.隨著薄膜厚度的增加表面粗糙度先增加后減小,當(dāng)薄膜厚為5 nm時出現(xiàn)最大值;在襯底溫度低于100℃的條件下,沉積在基片上的納米薄膜為非晶態(tài),納米顆粒為無方向性沉積,顆粒呈團(tuán)球狀,其成分基本滿足Al2O3的標(biāo)準(zhǔn)成分配比.
