編號(hào)：NMJS00810
篇名：Au/SiO_2納米復(fù)合膜的形貌及發(fā)光特性
作者：楊愛春; 李玉國(guó); 卓博世; 鄭學(xué)壘; 彭瑞芹;
關(guān)鍵詞：金/二氧化硅; 納米復(fù)合膜; 濺射; 光致發(fā)光; 納米結(jié)構(gòu);
機(jī)構(gòu)： 山東師范大學(xué)物理與電子科學(xué)學(xué)院半導(dǎo)體研究所;
摘要： 采用磁控濺射和退火法在Si(111)襯底上制備Au/SiO2納米復(fù)合薄膜,并在兩種實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｊ较逻M(jìn)行退火處理。模式A:不同的退火溫度,退火20min;模式B:退火溫度1 000℃,不同的退火時(shí)間。用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射方法(XRD)和光致發(fā)光(PL)等測(cè)試手段對(duì)退火后的Au/SiO2納米復(fù)合薄膜的表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性進(jìn)行了分析。SEM結(jié)果表明,在模式A情況下,隨著溫度的增加,Au納米顆粒的大小先增加后減小,這與XRD測(cè)試結(jié)果相吻合。PL結(jié)果表明,在模式B情況下,隨著退火時(shí)間的增加,發(fā)光峰強(qiáng)度先增加后減小。在325nm波長(zhǎng)下激發(fā),440nm的發(fā)光峰與Au顆粒的大小和數(shù)量有關(guān),而523nm的發(fā)光峰與納米復(fù)合膜的結(jié)構(gòu)有關(guān),這與SEM平面圖相吻合。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,Au/SiO2納米復(fù)合薄膜的表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性與退火溫度及退火時(shí)間有很強(qiáng)的依賴關(guān)系。
