編號(hào)：FTJS01292
篇名：ALD氧化鋁單層膜1064nm激光損傷特性研究
作者：劉志超; 衛(wèi)耀偉; 陳松林; 馬平;
關(guān)鍵詞：激光損傷; 原子層沉積; 損傷閾值; 損傷形態(tài);
機(jī)構(gòu)： 成都精密光學(xué)工程研究中心;
摘要： 采用原子層沉積技術(shù)(atomic layer deposition,ALD)在熔石英和BK7玻璃基底上鍍制Al2O3單層膜。利用小口徑損傷在線測(cè)試平臺(tái)對(duì)膜層的1064 nm激光損傷特性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)測(cè)量,獲得膜層損傷閾值約為10.3 J/cm2,對(duì)比了其與BK7基底損傷閾值之間的差異;利用Nomarski顯微鏡和原子力顯微鏡分析討論了損傷形態(tài)的特點(diǎn),結(jié)果表明損傷主要表現(xiàn)為膜層脫落和基片小孔燒蝕,其中小孔深度集中在70 nm~95 nm范圍;討論了損傷發(fā)生的誘因,得出膜基界面可能存在吸收源先驅(qū)的推斷。
