編號：FTJS10218
篇名：基于單磨粒劃擦仿真的鈦合金拋光機理研究
作者：李奇 于天彪 王宛山
關(guān)鍵詞： 鈦合金 拋光 材料去除機理 水漂效應(yīng) 數(shù)值模擬
機構(gòu)： 東北大學(xué)機械工程與自動化學(xué)院
摘要： 自由磨粒拋光被認為是最常用和最重要的拋光方法之一,拋光墊、自由磨粒和工件之間的相互作用形成了接觸區(qū)域的材料去除,材料去除機理的研究對于拋光過程控制和工藝參數(shù)優(yōu)化具有重要意義。建立了單磨粒劃擦熱-力耦合有限元模型,研究了鈦合金拋光過程中的材料去除機理,發(fā)現(xiàn)了單個磨粒高速劃擦過程中的“水漂效應(yīng)”現(xiàn)象,且隨著劃擦速度的增加,這種效應(yīng)越加明顯。當(dāng)在相同的劃擦速度下減小劃擦力時,材料去除方式由連續(xù)去除變?yōu)椴贿B續(xù)去除。因此,當(dāng)單個磨粒高速劃擦?xí)r,會產(chǎn)生類似于軸向超聲拋光的軌跡。該研究為鈦合金拋光高速劃擦過程中的微觀材料去除機理提供了理論參考。
