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        PI摻雜多孔SiO_2薄膜的制備及性能研究進展

        編號:CPJS00718

        篇名:PI摻雜多孔SiO_2薄膜的制備及性能研究進展

        作者:張學(xué)艷; 王偉偉; 柳清菊;

        關(guān)鍵詞:多孔SiO2; 聚酰亞胺; 薄膜; 制備; 性能;

        機構(gòu): 云南大學(xué)云南省高校納米材料與技術(shù)重點實驗室;

        摘要: 近年來對摻雜納米SiO2的聚酰亞胺薄膜的各種性能進行了充分的研究,而對以少量PI摻雜的多孔SiO2薄膜的研究較少。介紹了PI摻雜多孔SiO2薄膜制備過程中影響薄膜性能及應(yīng)用的兩個關(guān)鍵因素(相分離和熱處理固化成膜),理論分析了PI摻雜多孔SiO2薄膜的力學(xué)性能和絕熱性能,最后討論了目前存在的一些問題和今后的發(fā)展趨勢。

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