編號(hào)：NMJS00668
篇名：電沉積寬晶粒尺寸分布納米鎳的本征拉伸行為
作者：鄭耀東; 戴品強(qiáng); 許偉長(zhǎng); 胡樹韌;
關(guān)鍵詞：納米鎳; 拉伸行為; 陰極析氫; 電沉積;
機(jī)構(gòu)： 福州大學(xué); 福建工程學(xué)院; 北京工業(yè)大學(xué);
摘要： 通過(guò)直流電沉積制備平均晶粒度為27.2nm,寬晶粒尺寸分布(10～120nm)的納米鎳(B-NC-Ni)。在B-NC-Ni的拉伸實(shí)驗(yàn)中,存在著兩類不同的工程應(yīng)力-應(yīng)變曲線及宏觀斷口,結(jié)果表明:完整的拉伸曲線即本征曲線,具有恒應(yīng)力變形階段,宏觀斷口呈切斷;而不完整的拉伸曲線在平臺(tái)出現(xiàn)之前已發(fā)生斷裂,主要是由于電沉積時(shí)陰極析出的H可能會(huì)使鍍層形成空位和微孔兩類缺陷,均會(huì)加劇變形時(shí)晶界上裂紋的形成,宏觀斷口呈正斷。此外,實(shí)驗(yàn)中雜質(zhì)S(0.015%,質(zhì)量分?jǐn)?shù),下同)對(duì)B-NC-Ni的拉伸性能影響可忽略。
