編號(hào)：FTJS01009
篇名：二氧化鈦光催化氧化-離子色譜法測(cè)定液晶材料中的氟含量
作者：張紅漫; 陳敬文;
關(guān)鍵詞：二氧化鈦; 光催化氧化; 預(yù)處理; 液晶; 離子色譜; 氟;
機(jī)構(gòu)： 南京工業(yè)大學(xué)理學(xué)院;
摘要： 建立了TiO2光催化氧化-離子色譜法測(cè)定液晶材料中氟含量的方法。利用TiO2光催化氧化技術(shù)作為預(yù)處理手段對(duì)含氟液晶化合物進(jìn)行有機(jī)破壞,使碳氟鍵斷裂,生成的F-用離子色譜法測(cè)定。結(jié)果表明,TiO2催化劑用量為0.1g/L時(shí),可達(dá)到最佳的光催化降解效果,最佳降解時(shí)間為50min。F-峰面積與其含量在0.005～1mg/g范圍內(nèi)呈良好的線性關(guān)系,檢出限為2.1μg/g。測(cè)得3種液晶材料的氟含量分別為7.6,18.1及28.4mg/g,不同濃度的加標(biāo)回收率為86.0%～118.0%,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD(n=5)在3.2%～5.7%之間。本方法不僅適用于有機(jī)氟體系,同時(shí)也為需經(jīng)有機(jī)破壞后進(jìn)行測(cè)定的有機(jī)化合物體系提供了新方法。
