編號：NMJS08299
篇名：球磨法制備Bi12GeO20/WO3復合材料及可見光催化去除NO性能研究
作者：王繼元 王譽清 楊成 閆天儀 楊靖 龐清云 常飛 劉登國
關(guān)鍵詞： Bi12GeO20/WO3 光催化 NO去除 機制
機構(gòu)： 上海理工大學環(huán)境與建筑學院 上海理工大學材料與化學學院 上海理工大學機械工程學院 上海市環(huán)境監(jiān)測中心
摘要： 采用簡易球磨法制備了一系列Bi12GeO20/WO3二元半導體復合材料,并對其物相、光學和電化學性質(zhì)進行了分析�？梢姽夤獯呋コ齆O試驗表明:隨著WO3負載量的逐漸增大,材料去除活性先增大后減小,這主要歸結(jié)于合適的相組成以及異質(zhì)結(jié)提高了界面載流子的分離效率。另外,WO3的加入可有效抑制有毒中間產(chǎn)物NO2的生成,從而促進硝酸根與亞硝酸根的生成。通過活性物種捕捉試驗發(fā)現(xiàn),超氧自由基和空穴在光催化反應中均起到了主要作用,羥基自由基起到了輔助作用。能帶結(jié)構(gòu)分析表明,復合材料的光催化機制遵從Ⅰ型過程。循環(huán)試驗證明,材料具有較好的重復利用性和結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。
