編號：FTJS09007
篇名：氧化溫度和分散劑種類對Si3N4漿料性能的影響
作者：孫易桀 馬妍 王周福 劉浩 何健 呂戌生 王璽堂
關(guān)鍵詞： 自蔓延燃燒合成 氮化硅 漿料 穩(wěn)定性 抗沉降性 Ζ電位 黏度 氧化溫度 分散劑
機構(gòu)： 武漢科技大學(xué)省部共建耐火材料與冶金國家重點實驗室 江蘇晶鑫新材料股份有限公司
摘要： 研究了自蔓延燃燒合成Si3N4粉的氧化處理(在空氣氣氛中分別于400、600、800℃保溫3 h)以及添加的分散劑種類(分別為聚丙烯酸鈉、六偏磷酸鈉、三聚磷酸鈉、木質(zhì)素磺酸鈣)對制備的Si3N4漿料的抗沉降性、ζ電位和黏度的影響。結(jié)果表明:1)在空氣氣氛中于800℃保溫3 h氧化處理后,粉體中Si 2N 2O含量增多;用其制備的漿料的穩(wěn)定性最好,ζ電位絕對值較大,黏度最小。2)以六偏磷酸鈉作為分散劑制備的Si3N4漿料的穩(wěn)定性較好,ζ電位絕對值最大,黏度最小。3)添加0.021%(w)六偏磷酸鈉制備的Si3N4漿料的ζ電位絕對值最大,黏度較小。
