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        石英晶體微天平在高分子研究中的應(yīng)用

        編號:SBJS00875

        篇名:石英晶體微天平在高分子研究中的應(yīng)用

        作者:袁海洋 馬春風(fēng) 劉光明 張廣照

        關(guān)鍵詞: 石英晶體微天平 高分子刷 聚電解質(zhì) 離子效應(yīng) 海洋防污材料

        機構(gòu): 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)化學(xué)物理系 華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院

        摘要: 石英晶體微天平(QCM)作為一種強有力的表征工具已被廣泛應(yīng)用于高分子研究之中.本文中,作者介紹了QCM的發(fā)展簡史、基本原理以及實驗樣品制備方法.在此基礎(chǔ)上,介紹了如何基于帶有耗散測量功能的石英晶體微天平(QCM-D)及相關(guān)聯(lián)用技術(shù)研究界面接枝高分子構(gòu)象行為、高分子的離子效應(yīng)以及高分子海洋防污材料,展示了QCM-D技術(shù)在高分子研究中的廣闊應(yīng)用前景.QCM-D可同時檢測界面高分子薄膜的質(zhì)量變化和剛性變化,從而反映其結(jié)構(gòu)變化.與光譜型橢偏儀聯(lián)用后,還可同步獲取界面高分子薄膜的厚度變化等信息,可以有效解決相關(guān)高分子研究中的問題.希望本文能夠?qū)θ绾卫肣CM-D技術(shù)開展高分子研究起到一定的啟示作用,使這一表征技術(shù)能夠為高分子研究解決更多問題.

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