編號(hào)：CYYJ01774
篇名：甲基硅酸鹽/硅酸鹽復(fù)合膜的組成和性能研究
作者：張雙紅 楊波 翟偉 李爽 孔綱
關(guān)鍵詞： 甲基硅酸鈉 疏水性 硅酸鹽復(fù)合膜 耐腐蝕性
機(jī)構(gòu)： 廣州特種承壓設(shè)備檢測(cè)研究院 華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院
摘要： 采用兩步法制備甲基硅酸鹽/硅酸鹽復(fù)合膜,通過掃描電子顯微鏡(SEM)及EDS分析、紅外光譜(FT-IR)分析、接觸角測(cè)試、中性鹽霧實(shí)驗(yàn)和極化曲線等對(duì)膜層的微觀形貌、化學(xué)組成、疏水性及耐腐蝕性能進(jìn)行了研究,并與單獨(dú)的硅酸鹽膜、甲基硅酸鹽膜進(jìn)行對(duì)比。利用電化學(xué)阻抗譜和等效電路擬合分析甲基硅酸鹽/硅酸鹽復(fù)合膜的防腐蝕機(jī)理。結(jié)果表明:甲基硅酸鹽/硅酸鹽復(fù)合膜層的外層與單獨(dú)甲基硅酸鈉膜的成分含量基本一致,但其微觀形貌與單獨(dú)甲基硅酸鹽膜表面布滿裂紋不同,復(fù)合膜層的表面均勻平整、沒有開裂,膜層附著性好。單獨(dú)硅酸鹽膜為親水性膜層,甲基硅酸鹽/硅酸鹽復(fù)合膜表現(xiàn)出疏水性,與單獨(dú)硅酸鹽膜相比,復(fù)合膜對(duì)腐蝕的陰極過程的抑制明顯增強(qiáng),極化阻抗增加至單獨(dú)硅酸鹽膜的5倍以上,復(fù)合膜的總阻抗值超過100 kΩ·cm~2,復(fù)合膜的腐蝕電流密度比單獨(dú)硅酸鹽膜的降低了60%。
