編號：CPJS00667
篇名：核殼結(jié)構(gòu)PS/CeO_2復(fù)合微球的制備及其在化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用
作者：陳楊; 陸錦霞; 陳志剛;
關(guān)鍵詞：PS/CeO2復(fù)合微球; 核殼結(jié)構(gòu); 磨料; 化學(xué)機(jī)械拋光;
機(jī)構(gòu)： 常州大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院; 蘇州科技學(xué)院化學(xué)與生物工程學(xué)院;
摘要： 以原位化學(xué)沉淀的方法制備了不同粒徑、包覆結(jié)構(gòu)PS(核)/CeO2(殼)復(fù)合微球,利用X射線衍射儀、透射電子顯微鏡、選區(qū)電子衍射、場發(fā)射掃描電子顯微鏡、能譜分析儀、Fourier轉(zhuǎn)換紅外光譜儀、熱失重分析儀和ζ電位測定儀等手段對所制備樣品的微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。將所制備的復(fù)合微球用做磨料,考察其對二氧化硅介質(zhì)層的拋光性能,用原子力顯微鏡觀察和測量拋光表面的微觀形貌、輪廓曲線和粗糙度。結(jié)果表明,所制備的PS/CeO2復(fù)合微球具有核殼包覆結(jié)構(gòu),粒徑分別約為140,180和220 nm,PS內(nèi)核被粒徑約為5 nm的CeO2顆粒均勻包覆。AFM結(jié)果顯示,復(fù)合磨料的粒徑越小,拋光后表面粗糙度越低;且酸性(pH=3)比堿性(pH=10)拋光漿料具有更好的拋光效果。
