編號：FTJS00983
篇名：SiO_2/TiO_2復(fù)合粉體制備條件對其光催化能力的影響研究
作者：孫秀果; 吳國柱; 王少輝;
關(guān)鍵詞：納米二氧化鈦; 二氧化硅; 表面包覆; 光催化;
機(jī)構(gòu)： 石家莊鐵道大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院; 滄州職業(yè)技術(shù)學(xué)院化學(xué)工程系;
摘要： 采用包覆沉淀法制備了納米SiO2/TiO2復(fù)合粉體,考察了包覆速度、溫度對所得產(chǎn)品性能的影響,通過TEM表征和紫外吸收光譜分析,得出合適的包覆速度是改性的關(guān)鍵,并初步探討了其影響機(jī)理。以紫外光照下降解甲基橙為目標(biāo),研究了改性溫度和焙燒溫度對納米SiO2/TiO2復(fù)合粉體的光催化能力的影響規(guī)律。結(jié)果表明,合適包覆速度改性后的粉體粒度分布均勻,紫外吸收能力增強(qiáng),分散性提高;低溫改性后的粉體,低溫煅燒后光活性較好,高溫改性后的粉體,高溫煅燒后光活性較好。
