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        Cr–C/h-BN 自潤滑復合鍍層的制備與摩擦學性能

        編號:CYYJ02361

        篇名:Cr–C/h-BN 自潤滑復合鍍層的制備與摩擦學性能

        作者:沈玲莉 陸寶山 季業(yè)益 關集俱

        關鍵詞: 鉻−碳合金 六方氮化硼 復合鍍層 電沉積 自潤滑 摩擦磨損

        機構: 蘇州工業(yè)職業(yè)技術學院機電工程系 蘇州工業(yè)職業(yè)技術學院精密制造工程系

        摘要: 在三價鉻Cr–C鍍液中添加1~5 g/L的h-BN自潤滑微粒,運用直流電沉積技術在Q235碳素結構鋼基體上制備了Cr–C/h-BN復合鍍層。利用掃描電鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、顯微硬度計、摩擦磨損試驗機等設備分析了h-BN微粒添加量、電流密度等工藝參數(shù)對鍍層組織和性能的影響。結果表明:在電流密度20 A/dm2,h-BN添加量3 g/L的條件下,可獲得h-BN微粒體積分數(shù)為6.15%的復合鍍層。h-BN微粒的添加改善了Cr–C合金鍍層的耐磨性,Cr–C/h-BN復合鍍層在室溫干摩擦條件下的磨損率減少了22%,平均摩擦因數(shù)由原先的0.49降低至0.31。

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