編號(hào)：FTJS08204
篇名：共晶鋁硅合金恒流微弧氧化成膜工藝優(yōu)化
作者：李康 祝聞 易愛(ài)華 廖忠淼 李文芳 陳肯 葉韞 洪楚章 楊焱
關(guān)鍵詞： 共晶鋁硅合金 微弧氧化 正交優(yōu)化 耐蝕性 沉積速率 能耗
機(jī)構(gòu)： 東莞理工學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院
摘要： 采用恒流氧化模式對(duì)二元共晶Al-Si合金進(jìn)行微弧氧化(MAO)處理。在堿性電解液體系中,以Na_(2)SiO_(3)和C6H12N4(六次甲基四胺)質(zhì)量濃度、電流密度、脈沖頻率和占空比為優(yōu)化對(duì)象,以膜層的耐腐蝕性能、生長(zhǎng)速率及成膜的單位能耗同時(shí)作為評(píng)價(jià)指標(biāo),通過(guò)正交試驗(yàn)得到以下最優(yōu)成膜工藝:電解液由12 g/L Na_(2)SiO_(3)、2 g/L NaOH和5 g/LC_(6)H_(12)N_(4)組成,正、負(fù)向電流密度分別為10 A/dm^(2)和4 A/dm^(2),脈沖頻率400 Hz、占空比25%,單個(gè)周期的正負(fù)脈沖數(shù)之比為1。該工藝顯著降低了Si相對(duì)共晶鋁硅合金上MAO的不利影響。
