編號：CYYJ02216
篇名：Ni/Ag納米結構制備及其納米連接接頭性能的研究
作者：鄭振 王宏 王海波 楊魯東 王春青 李寧
關鍵詞： 化學鍍銀 Ni納米陣列 納米連接 剪切強度
機構： 哈爾濱工業(yè)大學分析測試中心 哈爾濱工業(yè)大學先進焊接與連接國家重點實驗室 哈爾濱工業(yè)大學微系統(tǒng)與微結構制造教育部重點實驗室 哈爾濱工業(yè)大學化工與化學學院 西安空間無線電技術研究所
摘要： 納米連接材料可以很好地滿足大功率器件的封裝要求,由于納米連接材料微觀結構與傳統(tǒng)焊盤存在較大差異,導致其在使用過程中存在微觀尺度的不兼容。為了更好地實現(xiàn)低溫連接高溫服役的目的,在傳統(tǒng)銅焊盤表面直接電沉積制備了Ni納米陣列,并對Ni納米陣列表面化學鍍銀工藝進行了研究,通過SEM、AFM等手段分析了不同清洗工藝、鍍液組成、施鍍溫度和時間對Ag鍍層微觀結構的影響。得到的Ni/Ag表面納米結構與納米銀連接材料進行直接熱壓燒結連接,接頭剪切強度測試結果表明,其剪切強度較銅焊盤接頭提高了14倍。
