編號(hào)：FTJS08018
篇名：氮?dú)饬髁亢屯嘶鹛幚韺?duì)射頻磁控濺射氮摻雜二氧化鈦薄膜性能的影響
作者：楊勇 汪冰潔 姚婷婷 李剛 金克武 沈洪雪 王天齊 楊揚(yáng) 彭賽奧 甘治平 馬立云
關(guān)鍵詞： 氮摻雜二氧化鈦薄膜 射頻磁控濺射 沉積速率 禁帶寬度
機(jī)構(gòu)： 浮法玻璃新技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
摘要： 常溫下利用TiO2陶瓷靶采用射頻磁控濺射法在玻璃襯底上制備了N摻雜TiO2薄膜。利用光學(xué)輪廓儀、X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜儀分析(XPS)和分光光度計(jì)等對(duì)薄膜的沉積速率、化學(xué)組成、晶體結(jié)構(gòu)和禁帶寬度進(jìn)行了系統(tǒng)研究。結(jié)果表明:磁控濺射N2流量和退火處理對(duì)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和性能有重要的影響。退火前,薄膜由非晶態(tài)TiO2構(gòu)成;退火后,薄膜呈現(xiàn)銳鈦礦相和金紅石相的混合相。隨著磁控濺射系統(tǒng)中N2流量的增加,退火前禁帶寬度從3.19eV減少到2.15eV;退火后,薄膜由非晶相TiO2組織轉(zhuǎn)化為銳鈦礦TiO2和金紅石TiO2構(gòu)成的渾河相組織,禁帶寬度相比退火前的非晶相TiO2薄膜略有增加。
