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        自摻雜二氧化鈦薄膜的結構、光譜和光催化性能

        編號:CYYJ02108

        篇名:自摻雜二氧化鈦薄膜的結構、光譜和光催化性能

        作者:靳亞雪 王斌 齊紅基 朱茂東

        關鍵詞: 自摻雜二氧化鈦薄膜 材料特征 光催化性能

        機構: 中國科學院上海光學精密機械研究所強激光材料重點實驗室 中國科學院大學

        摘要: 采用電子束蒸發(fā)系統(tǒng)制備氧化鈦薄膜并分別在氫氣和空氣中退火,在氫氣中退火的樣品由于其穩(wěn)定性強,能在空氣中保持淡黃色將近一年。對氧化鈦薄膜的結構,形貌,光譜和光催化性能進行詳細討論。結果表明,在氫氣中退火的薄膜比在空氣中退火的薄膜具有更好的光催化性能,氫氣中退火的樣品通過Ti3+摻雜能很好地調控電子結構從而提高光催化效率。Ti3+的存在縮小了帶隙。

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