編號(hào)：NMJS07572
篇名：聚乙烯醇改性對(duì)原子層沉積氧化鋁復(fù)合隔膜的影響
作者：于文匯 劉彥峰 王韞宇 李昌烽
關(guān)鍵詞： 聚乙烯膜 原子層沉積 表面改性 聚乙烯醇
機(jī)構(gòu)： 江蘇大學(xué)能源與動(dòng)力工程學(xué)院 廈門韞茂科技有限公司
摘要： 原子層沉積技術(shù)(ALD)是一種具有表面自限性反應(yīng)的薄膜生長(zhǎng)技術(shù),可以精準(zhǔn)控制薄膜的生長(zhǎng)。本文研究了ALD技術(shù)包覆聚烯烴隔膜,制作納米氧化鋁聚烯烴復(fù)合隔膜。聚烯烴膜表面無(wú)ALD氧化鋁反應(yīng)基團(tuán),造成ALD氧化鋁生長(zhǎng)成核慢,前期反應(yīng)效率低,最終生長(zhǎng)的氧化鋁多形成團(tuán)簇而非完整覆蓋的薄膜。為了增強(qiáng)ALD氧化鋁包覆聚乙烯膜(PE)的全覆蓋薄膜生長(zhǎng),將PE膜進(jìn)行了聚乙烯醇(PVA)表面改性處理,然后進(jìn)行ALD Al2O3生長(zhǎng)。通過(guò)掃描電鏡、紅外光譜、電感耦合發(fā)射光譜儀等技術(shù)手段系統(tǒng)分析了PVA表面改性對(duì)ALD Al2O3包覆PE膜性能指標(biāo)的影響。結(jié)果表明,PVA改性可以簡(jiǎn)單有效地在PE膜上增加羥基(-OH)作為ALD反應(yīng)位點(diǎn)。處理后的PE膜進(jìn)行ALD Al2O3生長(zhǎng),前驅(qū)體進(jìn)入反應(yīng)腔室后更易與表面羥基進(jìn)行反應(yīng),提高表面生長(zhǎng)效率,纖維上均勻包覆氧化鋁,無(wú)島狀生長(zhǎng)的Al2O3團(tuán)簇。同時(shí)PVA改性可以增強(qiáng)復(fù)合膜的耐熱收縮性能,減少厚度增加,減輕機(jī)械結(jié)構(gòu)的損壞。
