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        X射線熒光光譜法測(cè)定氧化鋁中雜質(zhì)含量的質(zhì)量控制方法

        編號(hào):NMJS07549

        篇名:X射線熒光光譜法測(cè)定氧化鋁中雜質(zhì)含量的質(zhì)量控制方法

        作者:李三艷 羅正紅 李輝 王桂花 曾奇 吳攸

        關(guān)鍵詞: 質(zhì)量控制 X射線熒光光譜法(XRF) 氧化鋁 二氧化硅 三氧化二鐵 氧化鈉

        機(jī)構(gòu): 重慶旗能電鋁有限公司

        摘要: 為滿足本公司生產(chǎn)需求,實(shí)驗(yàn)室采用X射線熒光光譜法(XRF)測(cè)定氧化鋁中SiO 2、Fe 2O 3、Na 2O含量,而XRF檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性取決于日常質(zhì)量控制效果。工作中總結(jié)出一套以XRF設(shè)備分析原理為基礎(chǔ)結(jié)合氧化鋁中SiO 2、Fe 2O 3、Na 2O測(cè)定經(jīng)驗(yàn)的有效質(zhì)量控制方法,論述了質(zhì)量控制計(jì)劃制定的依據(jù)及質(zhì)量控制方法選擇的原則,從儀器設(shè)備檢測(cè)狀態(tài)控制、樣品制備方法選擇、XRF漂移校正、標(biāo)準(zhǔn)樣品檢測(cè)、方法比對(duì)、人員比對(duì)及留樣再測(cè)等方面詳細(xì)介紹了內(nèi)部質(zhì)量控制方法,同時(shí)運(yùn)用實(shí)驗(yàn)室間比對(duì)及測(cè)量審核兩種外部質(zhì)量控制方法對(duì)內(nèi)部質(zhì)量控制效果進(jìn)行檢驗(yàn)。通過(guò)統(tǒng)計(jì)分析內(nèi)外部質(zhì)量控制數(shù)據(jù),發(fā)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)室用XRF測(cè)定粉末壓片法制樣的氧化鋁中SiO 2、Fe 2O 3、Na 2O含量,檢測(cè)結(jié)果準(zhǔn)確可靠,證明質(zhì)量控制方法有效。該套質(zhì)量控制經(jīng)驗(yàn)對(duì)于XRF測(cè)定其他材料中雜質(zhì)元素含量的質(zhì)量控制方法的建立同樣具有參考借鑒意義。

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