編號(hào)：NMJS07368
篇名：SiO2/Si上石墨烯薄膜的化學(xué)氣相沉積法制備及其性能表征
作者：劉喜鋒 張鵬博 方小紅 陳小源
關(guān)鍵詞： 石墨烯 化學(xué)氣相沉積 SIO2/SI 銅
機(jī)構(gòu)： 中國(guó)科學(xué)院上海高等研究院薄膜光電工程技術(shù)研究中心 中國(guó)科學(xué)院大學(xué) 上�？萍即髮W(xué)物質(zhì)科學(xué)與技術(shù)學(xué)院
摘要： 以銅為催化劑,采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和甲烷為碳源的化學(xué)氣相沉積兩步法,在SiO2/Si襯底上制備了石墨烯薄膜。利用拉曼光譜分析了薄膜的層數(shù)和質(zhì)量,利用光學(xué)顯微鏡(OM)和掃描電子顯微鏡(SEM)分析了薄膜的尺寸與表面形貌。實(shí)驗(yàn)探究了生長(zhǎng)時(shí)間、氫氣流量和氣體總壓強(qiáng)等工藝參數(shù)對(duì)石墨烯薄膜層數(shù)和質(zhì)量的影響,最終在優(yōu)化條件下制得10μm級(jí)質(zhì)量較高的多層石墨烯薄膜。
