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        KH-570原位改性納米二氧化硅的制備與表征

        編號:CPJS06303

        篇名:KH-570原位改性納米二氧化硅的制備與表征

        作者:王亞紅 洪勇波 趙夢婷 王念貴

        關(guān)鍵詞: 正硅酸乙酯 γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷 納米二氧化硅 原位改性

        機構(gòu): 湖北大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院

        摘要: 以正硅酸乙酯(TEOS)為原料,采用溶膠-凝膠法制備納米二氧化硅溶膠,再用γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)對其進行改性,得到KH-570改性的納米二氧化硅。采用紅外光譜(FT-IR)、粒徑分析、透射電鏡(TEM)以及熱重分析(TG)等對原料及產(chǎn)物進行表征。結(jié)果表明:KH-570能夠成功改性納米二氧化硅,改性后的納米二氧化硅尺寸主要分布在30~115nm。

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