編號：NMJS06786
篇名：低溫氧等離子體處理對單層石墨烯微觀結(jié)構(gòu)影響的研究
作者：鄧海君 王權(quán)
關(guān)鍵詞： 低溫氧等離子體 化學(xué)氣相沉積 石墨烯 拉曼光譜 XPS 原子力顯微鏡
機構(gòu)： 江蘇大學(xué)機械工程學(xué)院 中科院傳感技術(shù)國家重點實驗室
摘要： 運用低溫氧等離子體對化學(xué)氣相沉積法生長的單層石墨烯進行處理,通過拉曼光譜儀和X射線光電子能譜儀來表征處理前后的變化,重點探討了低溫氧等離子體處理對單層石墨烯微觀結(jié)構(gòu)的影響。在拉曼光譜中,處理后的石墨烯出現(xiàn)了明顯的D峰和D′峰,同時G峰和2D峰也出現(xiàn)了明顯的退化,而G峰峰位右移,2D峰峰位左移。通過X射線光電子能譜表征,表明處理后向石墨烯中引入了較多的官能團。利用原子力顯微鏡研究了處理前后SiO2/Si基底上石墨烯的表面形貌,發(fā)現(xiàn)低溫氧等離子體處理后石墨烯表面高度明顯增加,同時褶皺減少。
