編號：FTJS07021
篇名：電沉積制備氧化石墨烯-羥基磷灰石復合涂層
作者：曾永香 賀瑞 裴錫波 田玲钖 王劍 萬乾炳
關鍵詞： 電沉積 氧化石墨烯 羥基磷灰石 復合涂層
機構： 四川大學口腔疾病研究國家重點實驗室 杭州師范大學附屬醫(yī)院口腔科 四川大學華西口腔醫(yī)院修復科
摘要： 采用電沉積方法在鈦表面制備氧化石墨烯-羥基磷灰石（Graphene oxide/Hydroxyapatite,GO/HA）復合涂層,通過調整GO的濃度,研究GO對所得涂層晶體結構及生物學性能的影響。采用掃描電鏡（SEM）、透射電鏡（TEM）、X射線衍射（XRD）儀、傅里葉變換紅外光譜（FTIR）、拉曼光譜分析所得涂層的表面形貌和物相構成,用SEM觀察涂層表面MG63成骨樣細胞生長情況。結果表明,電沉積法可在鈦表面制備GO/HA復合涂層,且隨GO濃度增加,HA結晶度增加。此外,復合涂層較單純HA涂層更能促進成骨樣細胞早期粘附。
